基本信息
| 标准名称： | 焦深与最佳聚焦的测量规范 |
| 英文名称： | Specification for measuring depth of focus and best focus |
| 中标分类： | 电子元器件与信息技术 >> 微电路 >> 半导体集成电路 |
| ICS分类： | 电子学 >> 集成电路、微电子学 |
| 发布部门： | 国家质量技术监督局 |
| 发布日期： | 1999-09-01 |
| 实施日期： | 2000-06-01 |
| 首发日期： | 1999-09-13 |
| 作废日期： | 1900-01-01 |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 提出单位： | 中国科学院 |
| 归口单位： | SEMI中国标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 中国科学院微电子中心 |
| 起草人： | 陈宝钦、陈森锦、廖温初、刘明 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2004-08-22 |
| 页数： | 7页 |
| 书号： | 155066.1-16385 |
适用范围
本标准只涉及集成电路生产中所用的光刻技术及其关系密切的技术的聚集与焦深测量问题。由于设备技术多种多样，因而不可能提出这些参数的明确测量方法。本标准只提供基本准则。
前言
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目录
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引用标准
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所属分类： 电子元器件与信息技术 微电路 半导体集成电路 电子学 集成电路 微电子学